法人番号5130001046925
最終更新日2018/01/05 10:44

株式会社FLOSFIA

ミストCVD装置の製造、販売およびアプリケーション開発 酸化ガリウム(GaO)半導体の4インチウエハの開発 パワーデバイス事業、成膜ソリューション事業 ミストCVD成膜技術を基礎技術としてパワーデバイス(電力変換素子)製造、半導体以外の成膜ソリューション事業を展開。...すべて見る

ミストCVD装置の製造、販売およびアプリケーション開発
酸化ガリウム(GaO)半導体の4インチウエハの開発
パワーデバイス事業、成膜ソリューション事業
ミストCVD成膜技術を基礎技術としてパワーデバイス(電力変換素子)製造、半導体以外の成膜ソリューション事業を展開。

調査継続中
企業概要
企業名
株式会社FLOSFIA
英語名
FLOSFIA Inc.
代表者
人羅 俊実
住所
京都府京都市西京区御陵大原1-36 京大桂ベンチャープラザ北館202・203
設立
2011/03
起源
大学発
大学発(大学名)
京都大学
本店登記所在地
親会社
タイプ
未公開企業
ステージ
業種
半導体/その他電子部品・製品
インターネットビジネスモデル
N/A
株主状況
VCあり, 事業会社あり, 公的機関資金支援あり

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