A-11993最終更新日2016/05/24 11:03

株式会社京都薄膜応用技術研究所調査不能(HPアクセス不能などの事由)掲載データは過去のものです

京都府 タグの登録がありません
システムタグ未登録

独自の薄膜形成技術、[N-MHVスパッタ法]により、レアメタルを使用しないAIN/AI/AINナノ積層膜による低価格で高性…もっと見る

早速、ベンチャー情報センターユーザへお申込み!
entrepediaのサービスを利用してみましょう


  • 情報を追加して企業をPR

  • プレスリリースを掲載して情報発信

  • ニーズで求人やパートナーを募集

  • サービス紹介のコンテンツをアップロード

事業内容

独自の薄膜形成技術、[N-MHVスパッタ法]により、レアメタルを使用しないAIN/AI/AINナノ積層膜による低価格で高性能な透明断熱シートの開発

基本情報
タイプ
未公開企業
VBステージ
代表取締役
安田 政智
住所
京都
URL
http://www.sputtering.jp/
設立
2012/05
親会社
従業員数
データ無し
英語名
Kyoto Institute of Thin-film Technology & Application Co., Ltd. (KIT)
JVR Industry
環境関連
JVR Industry(大分類)
環境関連/産業・エネルギー
N/A
起源
大学発(大学名)
株主状況
JVR調査状況
調査不能(HPアクセス不能などの事由)
商号履歴

受賞歴

※こちらの情報はサンプルです

entrepediaユーザ登録

表示するニーズがありません
支援元
表示するベンチャー支援がありません
支援プログラム
表示する支援プログラムがありません
表示する情報がありません
Pay成長の推移
Pay調達額の内訳
accessAccess
-
followFollow
Comment
ピックアップ
有料サービス

Comment_u